②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數用途：高速gang刀具，處理鍍鈦廠(chǎng)家多少錢(qián)，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱(chēng)：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，處理鍍鈦廠(chǎng)家電話(huà)，TiAlN/AlTiN涂層在加工過(guò)程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時(shí)建議用TiAlN，加工材料硬度高于HRC45時(shí)建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

真空蒸鍍可應用在哪些產(chǎn)業(yè)?主要產(chǎn)業(yè)大多應用于裝飾、光學(xué)、電性、機械及防蝕方面等，現就比較常見(jiàn)者分述如下：1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等)，鏡片置于半球支頂，一次可鍍上百片以上。2.金屬、合金或化合物鍍膜，應用于微電子當導線(xiàn)、電阻、光電功能等用途。3.鍍鋁或鉭于絕緣物當電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗yang化性，商丘處理鍍鈦廠(chǎng)家，耐溫達1100OC，可應用須耐高溫環(huán)境的工件，如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線(xiàn)。

PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結構、耐化學(xué)和耐溫性、結合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過(guò)加熱或通過(guò)離子轟擊（濺射）來(lái)得到蒸發(fā)。同時(shí)添加反應性氣體（例如氮氣或含碳氣體）；之后形成含金屬蒸氣的復合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉固定在幾個(gè)軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。